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真空磁控溅射设备结果公告

基本信息
项目名称 省份
业主单位 业主类型
总投资 建设年限
建设地点
审批机关 审批事项
审批代码 批准文号
审批时间 审批结果
建设内容
中标信息
成交供应商: 北京泰科诺科技有限公司
选择理由: 总价最低,推荐成交
质疑投诉说明: 如有质疑,请在三个工作日内将质疑说明文件(纸质)递交至招标与采购中心,逾期不予受理。

项目名称 真空磁控溅射设备 项目编号 TYLGJJCG2022-0305
项目编号 TYLGJJCG2022-0305
公告发布日期 2022/12/05 16:31 报价截止时间 2022/12/08 16:31
报价截止时间 2022/12/08 16:31
采购单位 太原理工大学 付款条款 合同签订后预付合同金额的80%,货到验收合格后一次性支付剩余款项。
付款条款 合同签订后预付合同金额的80%,货到验收合格后一次性支付剩余款项。
联系人 中标后在我参与的项目中查看 联系手机 中标后在我参与的项目中查看
联系手机 中标后在我参与的项目中查看
是否本地化服务 是否需要踏勘
是否需要踏勘
踏勘联系人 踏勘联系电话
踏勘联系电话
踏勘地点 踏勘联系时间
踏勘联系时间
采购预算 ¥198,000.00 成交金额 ¥197,000.00
成交金额 ¥197,000.00
送货/施工/服务期限 合同生效之日起90日内
送货/施工/服务地址 太原市万柏林区迎泽西大街79号

采购清单
1
采购内容 是否进口 计量单位 采购数量 售后服务 分项报价
真空磁控溅射设备 1 1)所有仪器到达用户指定地点后,技术工程师在接到用户安装调试要求10个工作日内上门免费安装、调试。; 2)质保期为仪器安装验收合格后1年,质保期内,所有服务及配件全部免费; 3)制造商应终身负责维护维修。在用户提出维修要求5个工作日内到达现场,及时帮助客户解决问题,并免费对软件进行升级; 4)供货商免费提供现场培训,同时应提供2名(每台套)厂家培训中心免费培训名额。 ¥197,000.00
品牌及型号 华析 (HC-300)
泰科诺(JCP350)
技术参数要求 1.真空磁控溅射设备主要由真空腔室、磁控溅射靶、电源、基片台、真空系统、气路系统、PLC+触摸屏半自动控制系统等组成。
2.真空腔室:
1)结构:采用立式、圆柱体、气缸助力上翻盖结构;
2)材质及尺寸:采用SUS304优质不锈钢,Ф350×H350mm真空腔室;顶板焊水线;
3)腔室底部:2英寸圆形平面靶均匀分布;进气电磁截止阀;充气阀;
4)腔室顶部:旋转基片台;及自动翻盖机构;
5)侧部:DN150主抽气口;前方配有一套观察窗及挡板接口;
6)旋转共溅射基片台接口位于镀膜室的顶部;
7)预留接口:装膜厚仪以及其它用途;
8)Φ100mm观察窗及挡板,位于前面;
9)腔室防污屏蔽板采用优质不锈钢材质,便于拆卸清理、更换等。
3.基片台:抽屉式结构,基片台尺寸Φ120mm,最大样品尺寸小于Φ120mm:配有气动基片台挡板;配备通用夹具,方便用户装卡各种不同规格尺寸的基片;绝缘装置:绝缘设计及绝缘件;基片台电机驱动:旋转转速0~20转/分钟,连续可调;主轴磁流体密封;加热:基片台环境温度800℃,采用铠装加热器及绝缘、屏蔽等;采用固态继电器和PID可编程智能温度控制仪方式,实现加热温度自动控制。
4.溅射靶及电源:2只2英寸磁控溅射靶,靶角度、靶基距手动可调,永磁间接水冷方式,兼容直流、脉冲、射频等电源;靶基距调整范围80~110mm,方便调整最佳镀膜距离;直流脉冲溅射电源1kW,数字化控制及显示,1台;射频电源RF500W, 数字化控制及显示,1台;脉冲偏压电源:-1kV,数字化控制及显示,1台。
5.真空系统:复合分子泵:JTFB-600,抽速600L/s;直联高速旋片式真空泵:TRP-24,抽速6L/s,合资品牌,抽速快,低噪音;前级/旁路阀:DN40,气动挡板阀;真空测量:“两低一高”数显复合真空计。
6.工作气路系统:质量流量控制器及量程范围:Ar,100sccm;N2,20sccm;电磁截止阀:Φ6mm;混气管:三进一出。
7.气路系统:电接点压力表,用于气体压力保护报警;气排,用于各阀门之间分气使用。
8.电气控制系统:1)采用PLC+触摸屏控制系统,可实现自动一键式抽真空;2)控制内容:机械泵、前级阀的开与关;分子泵显示及开关控制;真空计参数显示及控制;基片台转速控制等;3)安全保护报警系统:在缺水、水压过低情况下的报警系统;完善的逻辑程序互锁保护系统。
9.含低噪音Ⅰ型空压机一台;含冷却循环水机一台。
10.机架控制柜:机架和控制柜一体化设计,碳钢制作,底下配脚轮,方便移动、定位。

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该项目其它公告
真空磁控溅射设备竞价公告 2022-12-05 16:31
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