[BA202300580]高真空磁控溅射系统备案公示公告

首页

欢迎来到剑鱼标讯

基本信息
项目名称		省份
业主单位		业主类型
总投资		建设年限
建设地点
审批机关		审批事项
审批代码		批准文号
审批时间		审批结果
建设内容

基本信息

项目名称

省份

业主单位

业主类型

总投资

建设年限

建设地点

审批机关

审批事项

审批代码

批准文号

审批时间

审批结果

建设内容

项目编号	BA202300580	项目名称	高真空磁控溅射系统
经办人单位	化学学院	经办人	董庆锋
预算金额	登录即可免费查看.00 人民币	成交金额	登录即可免费查看.00 人民币
成交供应商	沈阳天德创新科技有限公司	质保期	12 月
联系地址	辽宁省-沈阳市-沈北新区蒲河大道888号西十一区5号(5号)1楼34室	采购单位	吉林大学化学学院
付款方式	货到验收合格办理相关手续后100%付款。
供应商联系手机	13478241559	交货时间	成交单签订后30天内交货
交货地址	吉林省-长春市-前进大街2699号吉林大学南区唐敖庆楼A220
交货方式	乙方免费将产品送达甲方用户单位指定地点。
包装及运费	由乙方免费提供及承担
验收方式	以成交单为准，参考相关内容进行验收。验收程序以甲方职能部门规定为准。
售后服务要求	1.质保期：12月 2.售后服务提供商：沈阳天德创新科技有限公司 3.售后服务机构情况：规模（技术人员人数）：5人联系人：王敬武联系电话：13478241559 服务机构地点：沈阳市沈北新区蒲河大道888号西十五号(5号) 4.服务响应时间与服务内容：电话响应时间：1小时人员到达现场时间：2小时排除故障时间：48小时5.培训方案：培训次数：1次培训人员数量：5人培训地点：吉林大学费用：免费 6.本产品专用试剂的优惠供给计划：无其它服务承诺：无

项目编号

BA202300580

项目名称

高真空磁控溅射系统

经办人单位

化学学院

经办人

董庆锋

预算金额

登录即可免费查看.00
人民币

成交金额

登录即可免费查看.00 人民币

成交供应商

沈阳天德创新科技有限公司

质保期

12
月

联系地址

辽宁省-沈阳市-沈北新区蒲河大道888号西十一区5号(5号)1楼34室

采购单位

吉林大学化学学院

付款方式

货到验收合格办理相关手续后100%付款。

供应商联系手机

13478241559

交货时间

成交单签订后30天内交货

交货地址

吉林省-长春市-前进大街2699号吉林大学南区唐敖庆楼A220

交货方式

乙方免费将产品送达甲方用户单位指定地点。

包装及运费

由乙方免费提供及承担

验收方式

以成交单为准，参考相关内容进行验收。验收程序以甲方职能部门规定为准。

售后服务要求

1.质保期：12月
2.售后服务提供商：沈阳天德创新科技有限公司
3.售后服务机构情况：
规模（技术人员人数）：5人联系人：王敬武
联系电话：13478241559
服务机构地点：沈阳市沈北新区蒲河大道888号西十五号(5号)
4.服务响应时间与服务内容：
电话响应时间：1小时
人员到达现场时间：2小时
排除故障时间：48小时5.培训方案：
培训次数：1次
培训人员数量：5人培训地点：吉林大学费用：免费
6.本产品专用试剂的优惠供给计划：无
其它服务承诺：无

采购品目	其他分析仪器	品牌名称	天德创新科技
名称	高真空磁控溅射系统	产地及生产商	中国-沈阳天德创新科技有限公司
规格型号	TD-CK350	数量	1
计量单位	个	保修年限	1 年
单价	登录即可免费查看.00 人民币	总价	登录即可免费查看.00 人民币
主要技术参数	技术指标该系统为单室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、加热系统、直流电源、射频电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和控制系统等部分组成，可用于金属薄膜、介质膜等的制备。二、系统的主要组成及技术指标溅射室极限真空度：≤6.6x10-5Pa(经烘烤除气后)；（洁净真空环境）系统从大气开始抽气：溅射室25分钟可达到6.6x10-4 Pa；（抽速快，缩短实验准备时间）系统停泵关机12小时后真空度：≤10Pa； 1、溅射真空室真空室为圆筒形前开门结构，尺寸Ф350mmx400mm，全不锈钢结构。可内烘烤到100～150℃，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行电化学抛光国内首家钝化处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；手动前开门结构（放样品和换靶方便）；靶安装在下底盘，基片转台在上盖板（也可以安装为靶在上、基片台在下的结构方式）。真空室组件上焊有各种规格的法兰接口如下：、 Dg100 法兰接口：1 个（观察窗口）；、 Dg16 法兰接口：5 个（进气阀、放气阀、热偶规管，电极引线，备用 1 个）；、 Dg35 法兰接口：5 个(电离规管、旁抽阀、外照明、备用 2 个)；、 Dg150 法兰接口：1 个（接分子泵）；、磁控溅射系统：2套、靶材尺寸：2英寸；、提供靶材：不锈钢、铝、各一块（仅供测试靶材用）；、永磁靶，射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷；、每个靶都配备气动控制挡板组件 1 套；、靶在下，向上溅射，具有单独溅射、轮流溅射、共溅射功能；、暴露大气下，磁控靶可手动调节共溅射角度；、500w全自动调谐射频电源（北京吉兆源，其余国产电源做不好氧化物），1台、磁控靶与基片的距离手动可调，调节距离为：90~130mm。、旋转加热基片台、基片尺寸和数量：最大可放置1片4英寸圆形样品；、基片通过特殊设计样品台卡住样品两侧，使样品公转，保持镀膜均匀性。、基片自转速度连续可调；、气动控制样品挡板组件 1套；、窗口及法兰接口部件、Dg100玻璃窗口：1块，带衬玻璃；Dg35外照明玻璃窗口：1块，带衬玻璃；、Dg16陶瓷封接引线法兰：1个（内烘烤引线）；、盲法兰：Dg16：1个；Dg35：2个。 2、工作气路、100SCCM（氩气）、20SCCM（氧气）质量流量控制器（七星华创高精度）、Dg16截止阀、管路、接头等共2路；经过混气室，由Dg16进气阀往真空室内充入工作气体。、Dg16放气阀、管路、接头等：1路（解除真空充入氮气）； 3、抽气机组及阀门、管道（此配置抽速快、真空度高）、分子泵及变频控制电源（600L/S）：1台；、旋片真空泵（8L/S）：1台；、电动插板阀CF150：1台（用于复合分子泵与真空室隔离）；、旁抽角阀DN40：1台；、高真空挡板阀DN40：1台；、分子泵与机械泵软联接金属软管：1套；、机械泵与真空室之间的旁抽管路：1套； 4、安装机台架组件优质铝型材拼装成，快卸围板表面喷塑处理；机台表面用不锈钢蒙皮装饰；四个脚轮，可固定，可移动。 5、真空测量：采用数显真空计进行测量，测量范围：1x105Pa-1x10-8Pa. 6、系统采用PLC+触摸屏点动控制方式。控制真空启动，扳阀开启角度。挡板开关。

采购品目

其他分析仪器

品牌名称

天德创新科技

名称

高真空磁控溅射系统

产地及生产商

中国-沈阳天德创新科技有限公司

规格型号

TD-CK350

数量

计量单位

个

保修年限

1 年

单价

登录即可免费查看.00 人民币

总价

登录即可免费查看.00 人民币

主要技术参数

技术指标
该系统为单室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、加热系统、直流电源、射频电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和控制系统等部分组成，可用于金属薄膜、介质膜等的制备。
二、系统的主要组成及技术指标
溅射室极限真空度：≤6.6x10-5Pa(经烘烤除气后)；（洁净真空环境）
系统从大气开始抽气：溅射室25分钟可达到6.6x10-4 Pa；（抽速快，缩短实验准备时间）系统停泵关机12小时后真空度：≤10Pa；
1、溅射真空室
真空室为圆筒形前开门结构，尺寸Ф350mmx400mm，全不锈钢结构。可内烘烤到100～150℃，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行电化学抛光国内首家钝化处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；手动前开门结构（放样品和换靶方便）；靶安装在下底盘，基片转台在上盖板（也可以安装为靶在上、基片台在下的结构方式）。真空室组件上焊有各种规格的法兰接口如下：
、 Dg100 法兰接口：1 个（观察窗口）；
、 Dg16 法兰接口：5 个（进气阀、放气阀、热偶规管，电极引线，备用 1 个）；
、 Dg35 法兰接口：5 个(电离规管、旁抽阀、外照明、备用 2 个)；
、 Dg150 法兰接口：1 个（接分子泵）；
、磁控溅射系统：2套
、靶材尺寸：2英寸；
、提供靶材：不锈钢、铝、各一块（仅供测试靶材用）；
、永磁靶，射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷；
、每个靶都配备气动控制挡板组件 1 套；
、靶在下，向上溅射，具有单独溅射、轮流溅射、共溅射功能；
、暴露大气下，磁控靶可手动调节共溅射角度；
、500w全自动调谐射频电源（北京吉兆源，其余国产电源做不好氧化物），1台
、磁控靶与基片的距离手动可调，调节距离为：90~130mm。
、旋转加热基片台
、基片尺寸和数量：最大可放置1片4英寸圆形样品；
、基片通过特殊设计样品台卡住样品两侧，使样品公转，保持镀膜均匀性。
、基片自转速度连续可调；
、气动控制样品挡板组件 1套；
、窗口及法兰接口部件
、Dg100玻璃窗口：1块，带衬玻璃；Dg35外照明玻璃窗口：1块，带衬玻璃；
、Dg16陶瓷封接引线法兰：1个（内烘烤引线）；
、盲法兰：Dg16：1个；Dg35：2个。
2、工作气路
、100SCCM（氩气）、20SCCM（氧气）质量流量控制器（七星华创高精度）、Dg16截止阀、管路、接头等共2路；经过混气室，由Dg16进气阀往真空室内充入工作气体。
、Dg16放气阀、管路、接头等：1路（解除真空充入氮气）；
3、抽气机组及阀门、管道（此配置抽速快、真空度高）
、分子泵及变频控制电源（600L/S）：1台；
、旋片真空泵（8L/S）：1台；
、电动插板阀CF150：1台（用于复合分子泵与真空室隔离）；
、旁抽角阀DN40：1台；
、高真空挡板阀DN40：1台；
、分子泵与机械泵软联接金属软管：1套；
、机械泵与真空室之间的旁抽管路：1套；
4、安装机台架组件
优质铝型材拼装成，快卸围板表面喷塑处理；机台表面用不锈钢蒙皮装饰；四个脚轮，可固定，可移动。
5、真空测量：采用数显真空计进行测量，测量范围：1x105Pa-1x10-8Pa.
6、系统采用PLC+触摸屏点动控制方式。控制真空启动，扳阀开启角度。挡板开关。

中标单位	沈阳天德创新科技有限公司、
中标金额(元)

联系方式

省份	吉林	城市	长春市
招标代理机构		项目名称	高真空磁控溅射系统
采购单位	吉林大学化学学院立即查看	采购联系人	登录即可免费查看
采购电话	登录即可免费查看
拟定单一来源采购供应商	沈阳天德创新科技有限公司