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0~30转/分钟;加热:室温~500±1℃,可控可调,日本岛电PID智能温控闭环控温;5、磁控溅射靶源:3只3英寸圆形平面靶;6、基片台配有偏压清洗功能,并配有直流脉冲偏压电源;7
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可控可调。7.溅射靶及电源①配置2套3英寸永磁共焦磁控溅射靶(靶角度、靶基距手动可调),向上溅射;可以溅射磁性材料
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1电机转速(rpm)1440工作环境温度5-40℃噪音(dB)≤56重量(kg)19磁控溅射靶枪靶头形式:圆形平面靶工作真空度:10Pa—0.2Pa靶材直径:50/50
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2.2镀膜工件盘定位精度:工位中心与固定点的偏差小于0.1mm。2.2.3磁控溅射靶2.4交货地点:沈阳市大东区北海街242号。投标人资格要求3
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为3英寸溅射靶。每个靶位需配有独立挡板。靶位之间需放置隔板,防止交叉污染。2.磁钢:磁控溅射靶头可摆角度,可寻找最佳溅射角度,聚焦于共同点,靶角度调节精度为1°
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中国上海市招标产品列表(主要设备):序号产品名称数量简要技术规格备注1溅射蒸发台设备2套磁控溅射靶:尺寸≥2英寸,靶投位置固定,数目≥3个;射频电源需具有功率≥150W的RF电源
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中国上海市招标产品列表(主要设备):序号产品名称数量简要技术规格备注1溅射蒸发台设备2套磁控溅射靶:尺寸≥2英寸,靶投位置固定,数目≥3个;射频电源需具有功率≥150W的RF电源
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8. 磁控溅射靶采购流标公告项目基本情况采购项目编号:2023-YKZNKX-W4038采购项目名称:磁控溅射靶采购二、项目废标/流标的原因本项目至递交报价文件的截止时间(2023年1
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最小值)/(最大值+最小值)×100%;7.溅射靶及电源:不少于2只4英寸的磁控溅射靶,自动匹配射频电源功率500W不少于2台,直流脉冲溅射电源1KW不少于1台
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10. 磁控溅射靶采购询价公告项目概况磁控溅射靶采购采购项目的潜在供应商应在详见公告获取采购文件,并于2023年10月09日15点00分(北京时间)前提交响应文件。一、项目基本情况项目编号
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磁力垫片尺寸与品牌型号为KurtJ.LeskerTORUS®MagKeeper™磁控溅射靶头匹配;靶材的包装(如真空包装)须确保靶材在运输及存放时不被氧化或污染
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0°;﹢90°;﹣90°)样品加热器1套(Φ80mm)电阻蒸发舟1套(容量2mL)磁控溅射靶5套靶材尺寸3英寸靶基距调整范围65mm~135mm(中心相对值)2物
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0°;﹢90°;﹣90°)样品加热器1套(Φ80mm)电阻蒸发舟1套(容量2mL)磁控溅射靶5套靶材尺寸3英寸靶基距调整范围65mm~135mm(中心相对值)2物
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室温~500±1℃,可控可调,日本岛电PID智能温控闭环控温;5、配置3支3英寸永磁共焦磁控溅射靶(溅射靶角度、高度可调);6、磁控溅射电源:配备中频电源:1000W
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深圳市矩阵多元科技有限公司采购项目名称:磁控溅射靶枪及配套电源采购项目编号:清设比选20230814号公告开始时间:2023-07-0508:08
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00人民币主要技术参数技术指标该系统为单室结构,主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、加热系统、直流电源、射频电源、工作气路、真空获得系统、安装机台
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统1沈阳科仪TRP450(1)设备由进样室、溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、退火炉、反溅靶、磁力送样机构、工作气路、抽气系统
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CB105592023001871成交总额:1200申购主题:WO3磁控溅射靶材申请(淡黄色,不失氧,绑定铜背)送货时间:发布竞价结果后7天内送达采购单位
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22截止时间:2023-06-1115:22:15基本信息:申购主题:WO3磁控溅射靶材申请(淡黄色,不失氧,绑定铜背)报价要求:国产含税发票类型
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项目信息项目名称磁控溅射靶材采购申购业务号202302130009采购单位名称集成电路科学与工程学院成交信息成交价98657
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21. 真空磁控溅射设备结果公告00品牌及型号华析(HC-300)泰科诺(JCP350)技术参数要求1.真空磁控溅射设备主要由真空腔室、磁控溅射靶、电源、基片台、真空系统、气路系统、PLC+触摸屏半自动控制系统等组成。2
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1.该系统为单室结构,主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、加热系统、直流电源、射频电源、工作气路、真空获得系统、安装机台
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将极限真空提升到优于5×10-6Pa;通过增加磁控溅射靶头,实现三靶共溅射功能;通过增加测厚仪
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24. 磁控溅射镀膜机采购竞价公告接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;真空室组件上焊有各种规格的法兰。2、磁控溅射靶组件至少2套2.1、靶材尺寸:2英寸;2.2、永磁靶:射频溅射与直流溅射兼容
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1.工艺真空室;2.全自动进样室;3.真空系统:分子泵+干式机械泵;4.磁控溅射靶枪×4;5.直流&射频溅射电源;6.射频偏压加热工作台;7.自动控制系统;环境约束
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计量单位预算单价1大面积条形靶枪系统1套190000.00技术参数1.配2组矩形磁控溅射靶枪,矩形靶枪尺寸约为:360*70mm;2.磁控均匀,可制备均匀氧化镍,ITO等薄膜
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计量单位预算单价1大面积条形靶枪系统1套190000.00技术参数1.配2组矩形磁控溅射靶枪,矩形靶枪尺寸约为:360*70mm;2.磁控均匀,可制备均匀氧化镍,ITO等薄膜
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28. ITO陶瓷靶材等竞价项目成交公告00元成交供应商先导薄膜材料(广东)有限公司保修年限按厂家规定保修技术指标ITO磁控溅射靶材,成分:In:Sn(%)=95:5,纯度:99
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TC1.014650.014650.02超高真空磁控溅射靶枪AJAA320-XP-O-C-P1.09919.09919
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30. ITO平面靶竞价项目成交公告00元成交供应商先导薄膜材料(广东)有限公司保修年限按厂家规定保修技术指标ITO磁控溅射靶材,成分:In:Sn=90:10,纯度:99.99%(4N);尺寸
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31. 磁控溅射靶材竞价项目成交公告10-1217:49:08竞价结束时间2020-10-1908:20:00磁控溅射靶材商品名称磁控溅射靶材品牌/厂家定制型号定制数量13计量单位个成交单价13500
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霍尔离子源及电源,采用国产中频离子源电源,功率1KW,脉冲频率80kHz。11.射频磁控溅射靶,圆形间接水冷磁控溅射靶,靶材直径4英寸。12.霍尔离子源及电源
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